|
| |
|
|
Povrchová topografie plazmových polymerů nanesených na rovinných a vláknových substrátech zkoumaná pomocí mikroskopie atomární síly
Kurakin, Yuriy ; Pálesch, Erik (oponent) ; Čech, Vladimír (vedoucí práce)
Tato bakalářská práce se zabývá charakterizaci morfologie tenkých vrstev plazmových polymerů, které byly připraveny z monomeru tetravinylsilanu a naneseny na plošné křemíkové substráty a skleněná vlákna typu E. Způsobem přípravy tenkých vrstev byla chemická depozice z plynné fáze (PE CVD). K charakterizaci morfologie povrchu byla pouţita metoda mikroskopie atomárních sil (AFM), pro kterou byla zpracována literární rešerše v teoretické části této práce. Ze získaných dat byla posouzena závislost povrchové topografie ve vztahu k depozičním podmínkám a velikostí zkoumané plochy a rovněţ byly navrhnuty způsoby jejích interpretace pro účely následné statistické analýzy.
|
|
|
(100) substrate processing optimization for fabrication of smooth boron doped epitaxial diamond layer by PE CVD
Mortet, Vincent ; Fekete, Ladislav ; Ashcheulov, Petr ; Taylor, Andrew ; Hubík, Pavel ; Trémouilles, D. ; Bedel-Pereira, E.
Boron doped diamond layers were grown in an SEKI AX5010 microwave plasma enhanced chemical vapour deposition system. Effect of surface preparation, i.e. polishing and O2/H2 plasma etching on epitaxial growth on type Ib (100) HPHT synthetic diamonds were investigated. Using optimized substrate preparation, smooth (RRMS ~ 1 nm) boron doped diamond layers with metallic conduction and free of un-epitaxial crystallites were grown with a relatively high growth rate of 3.7 μm/h. Diamond were characterized by optical microscopy, optical profilometry, atomic force microscopy and Hall effect.
|
|
|
Povrchová topografie plazmových polymerů nanesených na rovinných a vláknových substrátech zkoumaná pomocí mikroskopie atomární síly
Kurakin, Yuriy ; Pálesch, Erik (oponent) ; Čech, Vladimír (vedoucí práce)
Tato bakalářská práce se zabývá charakterizaci morfologie tenkých vrstev plazmových polymerů, které byly připraveny z monomeru tetravinylsilanu a naneseny na plošné křemíkové substráty a skleněná vlákna typu E. Způsobem přípravy tenkých vrstev byla chemická depozice z plynné fáze (PE CVD). K charakterizaci morfologie povrchu byla pouţita metoda mikroskopie atomárních sil (AFM), pro kterou byla zpracována literární rešerše v teoretické části této práce. Ze získaných dat byla posouzena závislost povrchové topografie ve vztahu k depozičním podmínkám a velikostí zkoumané plochy a rovněţ byly navrhnuty způsoby jejích interpretace pro účely následné statistické analýzy.
|
|
| |
host ::
RSS.